上海真空鍍膜設備怎么跑業(yè)務(wù)

【為什么要在真空中鍍膜】：1.鍍的過(guò)程中不會(huì )受空氣分子碰撞,有較大的動(dòng)量到達待鍍件表面2.防止氣體“污染”.如：鍍金屬膜時(shí)可以防止氧化3.成膜過(guò)程不受氣體影響,致密牢固4.真空（負壓）狀態(tài)下,鍍膜材料的熔點(diǎn)教常壓下低,易于融化蒸發(fā)（對于蒸發(fā)類(lèi)型的鍍膜）真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學(xué)手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長(cháng)產(chǎn)品壽命、節約能源和獲得明顯技術(shù)經(jīng)濟效益的作用。因此真空鍍膜技術(shù)被譽(yù)為Zui具發(fā)展前途的重要技術(shù)之一，并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現出誘人的市場(chǎng)前景。國產(chǎn)真空鍍膜設備廠(chǎng)商推薦。上海真空鍍膜設備怎么跑業(yè)務(wù)

【真空鍍膜設備使用步驟】1電控柜的操作1)開(kāi)水泵、氣源2)開(kāi)總電源3)開(kāi)維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。4)開(kāi)機械泵、予抽，開(kāi)渦輪分子泵電源、啟動(dòng)，真空計開(kāi)關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。5)觀(guān)察渦輪分子泵讀數到達250以后，關(guān)予抽，開(kāi)前機和高閥繼續抽真空，抽真空到達一定程度后才能開(kāi)右邊的高真空表頭，觀(guān)察真空度。真空到達2×10-3以后才能開(kāi)電子槍電源。2DEF-6B電子槍電源柜的操作1)打開(kāi)總電源2)同時(shí)開(kāi)電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源：按電子槍控制Ⅰ電源、延時(shí)開(kāi)關(guān)，延時(shí)、電源及保護燈亮，三分鐘后延時(shí)及保護燈滅，若后門(mén)未關(guān)好或水流繼電器有故障，保護燈會(huì )常亮。3)開(kāi)高壓，高壓會(huì )達到10KV以上，調節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，偏轉電流在1~1.7之間擺動(dòng)。3關(guān)機順序1)關(guān)高真空表頭、關(guān)分子泵。2)待分子泵顯示到50時(shí)，依次關(guān)高閥、前級、機械泵，這期間約需40分鐘。3)到50以下時(shí)，再關(guān)維持泵。天津真空鍍膜設備定制真空鍍膜設備日常怎么維護？

【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對策之膜內白霧】： 白霧形成在膜內，無(wú)法用擦拭方法去除。 可能成因： 1. 基片臟 2. 鏡片表面腐蝕污染 3. 膜料與膜料之間、膜料與基片之間的匹配 4. 氧化物充氧不夠 5. 第yi層氧化鋯膜料，可能對某些基片產(chǎn)生白暈現象 6. 基片進(jìn)罩前（洗凈后）受潮氣污染 7. 洗凈或擦拭不良，洗凈痕跡，擦拭痕跡 8. 真空室臟、水汽過(guò)重 9. 環(huán)境濕度大 改善對策：基片本身的問(wèn)題可能時(shí)主要的鍍膜室盡量彌補，鍍膜本身Zui大的可能室膜料匹配問(wèn)題。 1. 改進(jìn)膜系，第yi層不用氧化鋯 2. 盡量減少真空室開(kāi)門(mén)時(shí)間 3. 真空室在更換護板、清潔后，Zui好能空罩抽真空烘烤一下，更換的護板等真空室部件必須干燥、干凈 4. 改善環(huán)境 5. 妥善保護進(jìn)罩前在傘片上的鏡片，免受污染 6. 改善洗凈、擦拭效果 7. 改善膜匹配（考慮第yi層用Al2O3） 8. 改善膜充氧和蒸發(fā)速率（降低） 9. 加快前工程的流程。前工程對已加工光面的保護加強。 10. 拋光加工完成的光面，必須立即清潔干凈，不能有拋光粉或其他雜質(zhì)附著(zhù)干結。

【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對策之膜外自霧】：現象：鍍膜完成后，表面有一些淡淡的白霧，用丙tong或混合液擦拭，會(huì )有越擦越嚴重的現象。用氧化鈰粉擦拭，可以擦掉或減輕?？赡艹梢蛴校?.膜結構問(wèn)題，外層膜的柱狀結構松散，外層膜太粗糙2.蒸發(fā)角過(guò)大，膜結構粗糙3.溫差：鏡片出罩時(shí)內外溫差過(guò)大4.潮氣：鏡片出罩后擺放環(huán)境的潮氣5.真空室內POLYCOLD解凍時(shí)水汽過(guò)重6.蒸鍍中充氧不完全，膜結構不均勻。7.膜與膜之間的應力改善思路：膜外白霧成因很多但各有特征，盡量對癥下藥。主要思路，一是把膜做的致密光滑些不容易吸附，二是改善環(huán)境減少吸附的對象。改善對策：1.改善膜系，外層加二氧化硅，使膜表面光滑，不易吸附。2.降低出罩時(shí)的鏡片溫度3.改善充氧（加大），改善膜結構4.適當降低蒸發(fā)速率，改善柱狀結構5.離子輔助鍍膜，改善膜結構6.加上Polycold解凍時(shí)的小充氣閥7.從蒸發(fā)源和夾具上想辦法改善蒸發(fā)角8.改善基片表面粗糙度9.注意Polycold解凍時(shí)的真空度。真空鍍膜設備升級改造。

真空鍍膜機主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類(lèi)，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子槍加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。需要鍍膜的被稱(chēng)為基片，鍍的材料被稱(chēng)為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來(lái)。并且沉降在基片表面，通過(guò)成膜過(guò)程（散點(diǎn)－島狀結構-迷走結構-層狀生長(cháng)）形成薄膜。 對于濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái)，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，終形成薄膜。真空鍍膜設備怎么維修。福建真空鍍膜設備工藝

真空鍍膜機使用時(shí)，需要注意哪些問(wèn)題?上海真空鍍膜設備怎么跑業(yè)務(wù)

【真空鍍膜設備的分類(lèi)】： 這個(gè)問(wèn)題如果在十年之前，其實(shí)是很容易回答的，就是兩個(gè)大類(lèi)，物理沉積設備和化學(xué)沉積設備?，F在這樣回答也是沒(méi)錯的，但現在再這樣回答就沒(méi)辦法把事情說(shuō)清楚了，所以從應用領(lǐng)域上可以分成以下幾類(lèi)： 傳統光學(xué)器件（鏡片，濾光片）所用的鍍膜設備：?jiǎn)吻惑w或多腔體蒸發(fā)式鍍膜設備，濺射式鍍膜設備。 新材料領(lǐng)域的柔性設備：卷對卷柔性鍍膜設備。 光通訊行業(yè)：離子束濺射鍍膜設備。 半導體及相似工藝：化學(xué)氣相沉積設備。 功能膜：多弧離子鍍設備，濺射設備，蒸發(fā)設備 玻璃工藝：濺射式連續線(xiàn) 其余的就得歸到“工藝定制設備”這個(gè)范圍里面了，例如車(chē)燈鍍膜設備，太陽(yáng)能的共蒸發(fā)設備，光纖鍍膜設備，太陽(yáng)能管設備等等上海真空鍍膜設備怎么跑業(yè)務(wù)

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